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40nm先进工艺集成电路技术研讨会隆重举行


 

 

    为进一步提升国内IC设计公司在先进工艺上的设计能力，6月18日，上海集成电路技术与产业促进中心（ICC）举行“40nm先进工艺集成电路技术研讨会”。来自fab和EDA公司的资深专家与国内知名IC设计公司100余人齐聚一堂，共同探讨先进工艺下集成电路设计的可靠性、稳定性及EDA工具使用等问题。

    目前，国内已经有一批领先的IC设计公司开始追赶国外业界前沿公司的步伐，使用40nm甚至更先进的工艺进行集成电路设计研发。针对这样的情况，ICC邀请到全球最大的晶圆代工厂台积电（TSMC）的资深先进工艺生产工程师、世界知名EDA公司的业内专家，与大批国内IC设计公司的研发工程师共同探讨先进工艺集成电路设计技术。

    会上，ICC主任张力天首先介绍了当前先进工艺在集成电路业的前景和ICC在帮助国内企业应用先进工艺过程中所做出的努力，引发了热烈反响；随后，TSMC中国区资深专家对先进工艺中工艺设计可靠性进行了概述；来自台湾的TSMC资深工程师详细阐述了如何在集成电路先进工艺设计中保证产品的稳定性，并且与到场的优秀工程师进行了热烈讨论。

    来自Mentor、Synopsys等世界知名的EDA公司的工程师和参会的工程师们分享了先进工艺下通过EDA软件进行设计研发的经验。

    此次会议为国内IC设计公司更好的使用先进工艺进行研发打下了良好的基石。

 

上海集成电路技术与产业促进中心

2014年6月30日

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